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Silicon nanowire photocathode

Silicon nanowire photocathode

MACE 식각된 p형 (100) Si 나노구조체로, 수소 발생을 위한 PEC 광음극으로 연구되었다. 붕소 도핑된 p형 (100) Si (10–15 Ω·cm)은 AgNO₃/HF metal-assisted-chemical-etching에 의해 형상화되며, 형태는 다공성 (<120 min) → 다공성+NW 혼합 (~120 min) → NW 성장 (>120 min, 480 min에서 최대 38.0 μm)으로 변화한다 (see Sim et al., J. Mater. Chem. A (2013), Fig. 1).

PEC 성능은 29.3 μm NW에서 최적값을 나타내며, 이는 촉매를 전혀 사용하지 않은 조건에서 얻어진 결과이다 (see Sim et al., J. Mater. Chem. A (2013), Table 1):

한편, 다공성 + 1.5 μm NW (120 min) 구조에서 한계 전류밀도 54.1 mA cm⁻²로 최댓값을 나타낸다 (Table 1). 이러한 구조적 향상은 nanostructure-enhanced-PEC 개념에 해당하며, 출발 웨이퍼는 p-type-Si-substrate이다.

CO₂→CO 광음극 (paper_057, 2015)

동일한 MACE (AgNO₃/HF, 50 min, 8 µm NW) Si 나노와이어를 CO₂→CO 반응의 광음극으로 사용한다 (paper_025의 HER에 국한되지 않음). 아세토니트릴 용매 내에서 수열 합성 N-GQS-hydrothermal 촉매를 적용한 경우 (see Yang et al., Adv. Funct. Mater. (2015), Table 1):

8 µm가 최적 길이이며, 과도한 길이 (12 µm)는 표면 트랩에 의해 J–E 곡선을 음극 방향으로 ~100 mV 이동시킨다. (⚠ Ag/Ag⁺ 아세토니트릴 기준전극은 위의 HER 값 또는 paper_053의 Au CRD에 사용된 수계 vs-RHE 척도와 직접 비교할 수 없다.)

CNW 분지형 HER 광음극 (paper_106, 2018)

동일한 MACE p-Si (100) NW (10–15 Ω·cm, 밀도 제어를 위한 2회 식각)를 골격으로 사용하여, Cu-vapor-CVD-direct-CNW-growth를 통해 계층적 분지 구조의 탄소 나노와이어 광음극 (CNW-SiNW-photocathode)을 제작한다. SiNW 단독 기준값 (AM 1.5G, 1 M HClO₄, pH 0; see Moon et al., Nanoscale (2018), Table S₁):

  • 개시 전위 +0.17 V vs RHE @ −1 mA cm⁻², E @ −5 mA cm⁻² = +0.12 V, E @ −10 mA cm⁻² = +0.09 V
  • ABPE 0.91%

carbon-nanowire-CNW 코팅 적용 시 개시 전위가 +0.20 V 상승하고 ABPE는 1.86%로 향상된다 (see photocathode-onset-potential, solar-to-hydrogen-efficiency).

로컬 그래프 (19 연결)

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나가는 연결 (13)

produced_by
Metal-assisted chemical etching (MACE)
MACE (AgNO3/HF, porous<120min, NW>120min) is sole fabrication route; length sets PEC performance
relates_to
Nanostructure-enhanced PEC (catalyst-free)
The Si NW array is the structural instantiation of nanostructure-enhanced PEC concept
produces
Photoelectrochemical current density (Si photocathode, HER)
CO2RR: 7.07 mA cm-2 at -2.5 V vs Ag/Ag+ (acetonitrile); distinct from HER in paper_025

역링크 (17)

produces
p-type (100) Si substrate
Planar Si wafer is starting material; MACE transforms it into nanostructured Si photocathode
relates_to
N-doped monolayer graphene (NGr)
parallel metal-free Si HER photocathode strategies: graphene catalyst on planar Si (paper_032) vs MACE nanostructuring without catalyst (paper_025); same first author Uk Sim
enhances
N-doped graphene quantum sheet (N-GQS)
N-GQS loaded on porous Si photocathode gives additional +0.09 V onset shift beyond nanostructuring alone
enhances
Hydrothermal N-doped graphene quantum sheet (N-GQS, CO2RR)
N-GQS catalyst on Si NW shifts CO2RR onset +130 mV vs Cu, +200 mV vs bare NW
relates_to
n-MoS2/p-Si photocathode
complementary p-Si PEC HER approaches: planar+TMD-catalyst vs nanostructured bare Si; different performance levers
relates_to
TiO2 nanorod passivation/antireflection layer
both Si-based HER photocathodes; NW (paper_025) achieves antireflection by geometry; TiO2 NR achieves it by graded n on flat Si + adds passivation
relates_to
Double-layer graphene photocathode (2L graphene / p-Si)
parallel metal-free HER photocathode strategies on Si: 2L graphene on planar p-Si (paper_075) vs MACE NW + N-GQS (paper_025/035); ABPE 0.32% vs STH not directly rankable
addresses_gap
RED stack as dual-function separator + voltage source
RED concept addresses the Si photovoltage ceiling (0.8 V < 1.23 V) that limited Si PEC in paper_025
relates_to
CNW–SiNW hierarchical photocathode
CNW-SiNW improves bare SiNW onset +0.20 V and ABPE 0.91->1.86%
enhances
Carbon nanowire (CNW, Cu-vapor CVD)
CNW coating raises onset +0.20 V, shifts Efb 0.040->0.123 V vs RHE, retains >89% photocurrent at 30 h