Nanohole-array copper electrode

CF₄-플라즈마로 식각된 nanorod-PI-substrate 위에 열증착으로 증착된 200 nm Cu 박막으로, 각 나노로드 주변의 **스크린 효과(screen effect)**에 의해 나노홀이 형성된다 (product, paper_020). 이 전극의 결정립 구조는 일반 Cu 박막과 유사하여, 결정립 크기가 피로 내성의 원인이 아님을 배제할 수 있다.

기하학적 구조 및 성능

• 나노홀 치수는 나노로드 템플릿을 그대로 계승한다: 직경 ~100 nm, 간격 ~100 nm (see Kim et al., Small (2012), Fig. 1).
• 초기 저항값 5.78 Ω (일반 Cu의 4.17 Ω 대비 ~38% 높음) — 이는 명시적인 설계상의 트레이드오프이며; 1.6% 인장 변형률 조건에서 500,000회 굽힘 사이클 동안 저항 변화가 **<10%**에 그치는 반면, 일반 Cu는 **>300%**의 변화를 보인다 (see Kim et al., Small (2012), Fig. 4a; see bending-fatigue-electrical-stability).

이 전극의 피로 내성에 대한 구조적 근거는 nanohole-crack-dual-suppression에 제시되어 있다.