entity:product
Hollow MoS2 nanotube
Hollow MoS₂ nanotube
정렬된 2H-MoS₂ 쉘과 MoO₂ 내부 코어를 갖는 자립형 중공 MoS₂ 나노튜브; MoS₂-C-nanofiber-composite 플랫폼의 최고 pO₂ 형태 (see Nam et al., Adv. Mater. (2017)).
구조
- 280 °C 공기 안정화 후 0.4 Torr 하소 처리를 통해 형성되며, 이 과정에서 C 제거가 가속됨 (see Nam et al., Adv. Mater. (2017), Fig. 3f, Fig. 4).
- 쉘: 정렬된 2H-MoS₂, 적층 수 최대 25, 쉘 층 길이 > 100 nm, 종횡비 > 100; 쉘 d-간격 0.61 nm는 Cs 보정 TEM + FFT에 의해 MoS₂(002)로 동정됨 (see Nam et al., Adv. Mater. (2017), Fig. 4c).
- 내부 코어: MoO₂ (C 과소비에 따른 부분적 Mo 산화로 형성), TEM-FFT + EDS에 의해 동정됨 (코어에서 쉘보다 높은 O 원자 분율) (see Nam et al., Adv. Mater. (2017), Fig. 4d, Fig. S15b–e).
- 통계적 쉘 평균 길이 33.01 nm / 적층 수 16.5 (전체 조건 중 최소 표준편차) (see Nam et al., Adv. Mater. (2017), Fig. 5b–c).
관계
- 최대 C 제거 조건(안정화 + 0.4 Torr)에서 nanoscale-Boudouard-selective-oxidation에 의해 생성됨.
- MoS₂-stacking-number-pO2 경향의 극단적 끝점에 해당함.
- 박막 형태인 2H-MoS₂-thermolytic-film (paper_061)과 구별됨 — 관형 구조가 아닌 박막임.
로컬 그래프 (5 연결)
드래그·휠로 탐색 · 노드 호버 → 관계 · 클릭 → 페이지
나가는 연결 (5)
역링크 (4)
← produces
Nam et al., Adv. Mater. (2017)
Highest-pO2 morphology outcome of the same platform
← produces
Nanoscale Boudouard selective oxidation
Hollow nanotube formed at maximum C removal (stabilization+0.4 Torr)
← mentions
← mentions