ITO 나노입자 필름

에탄올 잉크 내 30 nm ITO 나노입자(In₂O₃:SnO₂ 90:10 wt%)를 스핀 코팅하여 제조한 투명 전도성 산화물 필름으로, paper_030의 주요 합성 목표물이다. 합성된 나노입자 표면에는 유기 리간드(올레산 / 미리스트산 / PVP 계열)가 코팅되어 있으며, 제어된 산소 분압 하에서의 후열처리를 통해 이를 제거하고 산소 공공 밀도를 조절한다 (see Kim et al., J. Mater. Chem. C (2013), Fig. 6, p. 5958).

• 최적화된 열처리 조건(550 °C / 2.1 × 10⁻³ Torr, 저진공)에서 두께 300 nm 기준: 전도도 313 Ω⁻¹ cm⁻¹, 면저항 30 Ω sq⁻¹, 투과율 90%, Haacke 성능 지수 5.4 × 10⁻³ Ω⁻¹ — 대기압 호환 공정을 사용하면서도 상용 스퍼터링 ITO(B_TC = 5 × 10⁻³ Ω⁻¹)에 필적하는 수준을 달성하였다 (see Kim et al., J. Mater. Chem. C (2013), Fig. 6, p. 5958).
• 잔류 결정립계와 6.6%의 표면 기공률(기공 크기 17.2 nm)로 인해 이동도는 스퍼터링 필름 대비 약 1자릿수 낮은 수준에 머물며, 완전한 치밀화를 위해서는 1200 °C 이상이 필요하다 (see Kim et al., J. Mater. Chem. C (2013), pp. 5957–5958).

전도도는 dual-pO2-conductivity-tradeoff에 의해 결정되며, 정량적 다중 출처 비교표는 ITO-film-conductivity를 참조한다.