Anodized aluminum oxide (AAO) template

Cu-mesopore-electrode 제작 시 Cu 스퍼터링 과정에서 메조기공 형상을 정의하는 섀도 마스크로 사용되는 희생형 다공성 알루미나 막 (see Yang et al., Angew. Chem. Int. Ed. (2016)).

• 표준 AAO 다공성 막으로, 기공의 폭/깊이가 최종 Cu 메조기공의 치수를 직접 결정한다 (폭/깊이 변형체: 30/40, 30/70, 300/40 nm).
• 전기화학적 사용 전에 제거되며, 제품에 포함되지 않고 제거 후 Cu 촉매와 화학적 상호작용이 없다 — 따라서 auxiliary로 분류된다 (제작 환경을 제어하지만, 반응에서 소모되거나 촉매 역할을 하거나 생성물의 구조 성분으로 포함되지 않음).

두 번째 활용 사례: 나선형 나노구조 반응기 (paper_268, 2025)

위의 섀도 마스크 역할 외에도, AAO는 SC-mode 전기증착 조건에서 나선형 나노구조 반응기로도 기능한다 (see Jeon et al., Science (2025)). >250 V에서 절연성 기공 벽이 환원 반응 부위가 되어 (surface-conduction-electrodeposition-morphology), CoFe 나노입자가 템플릿 기공 내부에서 CoFe-chiral-magnetic-nanohelix로 조립된다. 이후 AAO는 합성 완료 후 용해·제거된다 (see Jeon et al., Science (2025), Fig. 3A). auxiliary 역할(희생형, 최종 구조에 비포함)은 동일하지만, 형상 정의 기능은 상이하다.