실리콘 나노브릭 메타표면 단위 셀

실리콘 나노브릭 단위 셀(높이 220 nm, 길이 290 nm, 폭 140 nm, 셀 주기 400 nm)은 비정질-Si/SiO₂ 또는 SOI 기판 위에 전자빔 리소그래피로 패터닝된다. 이 구조는 두 직교 축을 따라 이중 자기 쌍극자 공명(y축 660 nm, x축 730 nm)을 지지하도록 설계되며, 이를 통해 기하학적 위상 인코딩 하에서 반파장판(δ = π)으로 작동한다.

형상 및 공명 (see Li et al., ACS Nano (2017), Fig. 1)

• 치수: H 220 nm, L 290 nm, W 140 nm, 주기 C 400 nm; 단축 종횡비 1.5.
• 두 개의 독립적인 자기 쌍극자 공명: y축 660 nm, x축 730 nm (Fig. 1d–g).
• 동작 파장에서 **반파장판(δ = π)**으로 작동하여, 원형 편광 조명 하에서 완전한 편광 변환을 가능하게 한다.

역할

나노브릭은 dual-magnetic-resonance-phase-control 메커니즘을 구현하며, geometric-phase-metasurface-hologram 소자의 기본 구성 단위이다.

관련 이중 모드 변형 구조 (paper_105)

a-Si:H 이중 나노로드 단위 셀(a-Si-H-double-nanorod-unit-cell, paper_105)은 이 PB-위상 플랫폼을 이중 모드 소자(dual-mode-metasurface-crypto-display)로 확장하며, 크기 선택적 분광 응답(투과 홀로그램 + 반사 색상)을 통해 독립적인 구조 색상 채널을 추가한다. 동일한 Rho 그룹/Nam 공동 연구이나, 본 단일 모드 반사형 나노브릭과는 구별된다. Yoon et al., ACS Nano (2018) 참조.