pH-dependent monolayer coverage (αS-AuNP on SiO₂)
pH-dependent monolayer coverage (αS-AuNP on SiO₂)
SiO₂ 위 alpha-synuclein-AuNP-monolayer의 증착 밀도는 pH에 따라 급격히 달라지며, 조밀한 단층을 위한 **좁은 최적 pH 창(window)**을 설정한다. pH에 따른 SEM 입자 밀도 (see Bhak et al., ACS Appl. Mater. Interfaces (2017), Fig. 1e):
| pH | 입자 밀도 (μm⁻²) |
|---|---|
| 6.0 | 649.0 ± 9.0 |
| 5.5 | 765.5 ± 7.9 |
| 5.0 | 1016.2 ± 55.3 |
| 4.5 (최적) | 1381.8 ± 47.3 |
| 4.0 | ND — 응집(agglomeration) |
| 3.5 | ND — 응집(agglomeration) |
| 3.0 | 1052.7 ± 37.2 |
(see Bhak et al., ACS Appl. Mater. Interfaces (2017), Fig. 1e)
이중봉(bimodal) 거동
피복은 이중봉이다: 조밀한 단층은 pH 4.5에서 정점을 찍고, 그 위에서는 척력적/희박해지며(순-음전하 αS), pH 3.0에서도 다시 그러하다(순-양전하 αS). 반면 pH 3.5–4.0에서는 결합체가 다층 응집체로 응집한다(밀도 "측정 불가") — 이는 펼쳐진 alpha-synuclein이 계산된 NAC/C-말단 pI ≈ 3.64 부근의 전하 반전점을 지나는 시그니처다(see Bhak et al., ACS Appl. Mater. Interfaces (2017), Fig. 1c–e). 이 pH 민감성은 IDP-omni-adhesive-coating 메커니즘의 결과이자 실용적 스케일업 제약 조건이다(3.5–4.0 응집 구간을 피하기 위한 엄격한 pH 제어 필요).
조건
결합체는 pH 제어 증착에 앞서 20 mM MES, pH 6.5, 4 °C, 12 h에서 형성되었다 (see Bhak et al., ACS Appl. Mater. Interfaces (2017), Experimental Details; Fig. 1e).