Ag 432 helicoid III (실리카 몰드 유래)

432 키랄 형태를 갖는 최초로 보고된 Ag 나노입자 — 432-helicoid-III에서 유래한 키랄 실리카 몰드 내부에서 Ag를 성장시킨 Au@Ag 코어-쉘 입자 (see Ha et al., J. Am. Chem. Soc. (2024), Figs. 4–5).

형성 메커니즘

chiral-silica-mold-templating을 통해 형성된다: 432-helicoid-III Au 마스터에 실리카를 코팅하고, 기공을 개방한 뒤, Au를 식각하여 비키랄 Au 시드를 포함하는 키랄 실리카 공동을 남긴다. 이후 아세토니트릴-배위 착물 시드 매개 반응속도론(환원 전위 저하, 자가 핵형성 억제를 위한 적가 방식)으로 Ag를 성장시키고, PVP로 안정화된 NaOH 식각을 통해 실리카를 제거한다 (see Ha et al., J. Am. Chem. Soc. (2024), text p. 30743–30744).

특성

• |g| = 0.15 (표준 템플릿) 및 0.21 (고g-인자 템플릿; see Ha et al., J. Am. Chem. Soc. (2024), Fig. 4e and Fig. S4b) — 키랄 리간드 Ag NPs의 기존 최고값(|g| = 0.04, ref. 39) 및 조립형 Ag 구조체의 최고값(|g| = 0.07, ref. 40)을 크게 상회한다.
• g-인자 피크가 성장 과정에서 477 → 592 nm로 적색 편이된다.
• 단결정성 (SAED, Fig. 5d,e; 거의 동일한 격자 상수를 갖는 Au–Ag 에피택셜 성장); 갭 내부에 고지수 면 노출 — 몰드가 Ag 표면 확산을 물리적으로 제한함으로써, 고지수 면의 안정성을 저해하는 현상을 억제한다.
• 형태 전사 수율 86.4% (Fig. S8a).

연관 관계

432-helicoid-III 마스터로부터 chiral-silica-mold-templating에 의해 제조되며, 동일한 몰드 공정으로 제작된 Pd-432-helicoid-III 및 Pt-432-helicoid-III와 형제 관계에 있다.